Estructuración por láser de capas ITO
Material
Capa ITO, estructurada por láser, mín. distancia entre electrodos. 25 µm (Material: T-MOX-60, en película de PET, Fabricante Compañía Bekaert / Bélgica)
Las capas ITO (Indium Tin Oxide) han encontrado un amplio campo de aplicación como material para electrodos en la tecnología de displays, pantallas táctiles, diodos electroluminiscentes, OLEDs (Organic Light Emitting Diodes), etc. Estas capas son conductoras eléctricamente y ópticamente transparentes. Como procedimiento de revestimiento se emplea mayormente la tecnología de chisporroteo. Las propiedades eléctricas y de transparencia dependen entre otros del control preciso del contenido de oxígeno durante el proceso de recubrimiento. Además las propiedades de las capas ITO se pueden variar mediante la relación del indio con respecto al estaño en el óxido. Si, por ejemplo, la proporción de estaño se reduce, entonces se incrementa la conductibilidad eléctrica.
Es posible aplicar este material a los materiales de sustrato más diversos, como PET (Entereftalato de polietileno, triacetato de celulosa, PEN (enaftenato de polietileno), vidrio, etc.
Estructuración por láser
Los campos de aplicación mencionados de las capas ITO presuponen una estructuración que se puede realizar a través de los procedimientos de estructuración más diversos, como por ejemplo, chisporroteo a través de máscara, litografía, impresión, etc. La estructuración por medio del láser ha resultado ser un procedimiento sencillo y efectivo. Aquí la compañía LPKF Laser & Electronics AG ha desarrollado un procedimiento, que obtiene muy buenos resultados a partir de la proyección de máscara. El procedimiento puede ser ofertado tanto como procedimiento en lotes como en bobina a bobina. La ablación por láser trabaja tan efectivamente, porque se opera en el así llamado "modo de impacto único", es decir la capa ITO se extiende con un solo impulso de láser. Para la ablación se necesitan densidades de energías (fluencias) de aproximadamente 200 mJ/cm².
